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簡要描述:化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
產(chǎn)品型號(hào):NP-CMP 
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間:2023-12-20
訪  問  量:3847產(chǎn)品分類
詳細(xì)介紹
化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備的特點(diǎn):
經(jīng)過測試的工藝路線,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
智能控制,實(shí)時(shí)監(jiān)測,完整數(shù)據(jù)存儲(chǔ),直觀顯示圖表
轉(zhuǎn)速可調(diào),溫度可控,超聲波強(qiáng)度可調(diào),可定時(shí)
操作方便簡潔,清洗容易
技術(shù)參數(shù):
Items  | 實(shí)驗(yàn)型Experiment Type  | 生產(chǎn)型Production Type  | 
溫度Temperature(℃)  | -30℃~80℃  | -20℃~80℃  | 
分散方式Dispersion Type  | 連續(xù)式continuous  | 連續(xù)式continuous  | 
材質(zhì)Material quality  | 玻璃、不銹鋼、鈦 glass or stainless steel  | 不銹鋼、鈦stainless steel  | 
規(guī)格Specification  | 依容積depend on volume  | 定制customized  | 
流量Flow rate  | 50~1000ml/min  | 可定制customized  | 
介質(zhì)粘度media viscosity  | ≤104cP  | ≤104cP  | 
攪拌轉(zhuǎn)速agitation speed  | 500~3000rpm依實(shí)際需求選擇  | 500~3000rpm依實(shí)際需求選擇  | 
剪切轉(zhuǎn)速agitation speed  | 1400~20000rpm依實(shí)際需求選擇  | 1400~12000rpm依實(shí)際需求選擇  | 
電源Power  | 220V/50Hz  | 220V/50Hz 、380V/50Hz  | 
超聲功率Ultrasonic power  | 200~3000W  | 定制customized  | 
超聲頻率Ultrasonic Frequency  | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz  | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz  | 
顯示方式Display model  | 數(shù)顯、液晶觸摸屏digital display,LCD touch screen 依據(jù)需要可選擇  | 液晶觸摸屏LCD touch screen  | 
其它Others  | 溫度、功率可調(diào)Temperature、power adjustment  | |
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